De meet- en beoordelingsrichtlijn C “Storing aan apparatuur” geeft een procedure voor het meten en beoordelen van trillingen met betrekking tot trillingsgevoelige apparatuur. Denk daarbij ondermeer aan:
- Optische apparatuur zoals massaspectrometers
- Apparatuur voor CD fabricage
- Main frames van datacentra
- Oog laser apparatuur
- Weeg instrumenten
- Drukkerij apparatuur (paspoorten etc.)
De AVCMonitoring verricht volledig automatisch de trillingen en kunnen direct on-line worden getoetst aan de eisen van de fabrikant of de BBN-criteria (Bolt, Beranek and Newman) en FHA-criteria (Frank Hubach Associates).
| Indeling en criteria volgens Bolt, Beranek and Newman Inc | |
| Type apparatuur of gebruik | Veff µm/s*) |
| Woningen; computersystemen | 200,00 |
| Operatiekamers; microscopen met een vergroting tot 100 x | 100.00 |
| Microscopen met een vergroting tot 400 x, optische en andere precisie-balansen;plaatsbepalingsapparatuur; metrologische laboratorium-ruimten; optische comparatoren; fabricage-apparatuur voor micro-electronica (class A) | 50,00 |
| Micro-chirurgie, oog- en zenuw-operaties; microscopen met een vergroting meer dan 400 x;optische apparatuur op geïsoleerde opstellingen; fabricage-apparatuur voor micro-electronica (class B) | 25.00 |
| Electronenmicroscopen met vergrotingen tot 30.000 x; microtomes, magnetic resonance imagers; fabricage-apparatuur voor micro-electronica (class C) | 12.50 |
| Electronenmicroscopen met vergrotingen meer dan 30.000 x; massa-spectrometers; cell implant equipment; fabricage-apparatuur voor micro-electronica (class D) | 6.25 |
| Niet geïsoleerde laser / optische onderzoeksystemen; fabricageapparatuur voor micro-electronica (class E) | 3.15 |
| *) In het frequentiegebied van 8 tot 80Hz per terts. |
| Class Apparatuur | Class |
| Inspection, probe test en andere ondersteunende apparatuur bij de fabricage | A |
| Aligners, steppers en andere kritische apparatuur voor fotolithografie met lijnbreedte van 3um of meer | B |
| Aligners, steppers en andere kritische apparatuur voor fotolithografie met lijnbreedte van 1um of meer | C |
| Aligners, steppers en andere kritische apparatuur voor fotolithografie met lijnbreedten van 0,5um,alsmede E-beam apparatuur | D |
| Aligners, steppers en andere kritische apparatuur voor fotolithografie met lijnbreedten van 0,25um alsmede E-beam apparatuur | E |